受到電場(chǎng)力的吸引，接下來(lái)氮的陽(yáng)離子會(huì )向飛向陰極即靶材附近，而電子則會(huì )飛向引弧針，但是由于離子的質(zhì)量遠遠大于電子，因此在受到相同電場(chǎng)力的情況下，電子的移動(dòng)距離會(huì )大于陽(yáng)離子的移動(dòng)距離，于是當電子到達陽(yáng)極時(shí)，離子將不會(huì )到達陰極靶面，而是在距離靶面較近的位置處富集，形成正離子堆積層，陽(yáng)離子與陰極靶面的距離很小，可達微米級。根據E=U/d，可知此時(shí)空間中的電場(chǎng)強度極高，這種極強的電場(chǎng)會(huì )把靶材中的電子“扯”出來(lái)。

　鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝，現在已經(jīng)在工業(yè)領(lǐng)域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。

　　在二十世紀七十年代末，人類(lèi)就已經(jīng)開(kāi)始物理氣相沉積技術(shù)，即PVD技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)可以應用在硬質(zhì)膜的制造上，它能夠提高產(chǎn)品的機械化學(xué)性能，使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能，還可以減輕摩擦作用。這種技術(shù)在剛開(kāi)始使用時(shí)，就在世界各國的工具制造業(yè)引起了巨大的反響，受到了高度重視。同時(shí)，這種技術(shù)工藝符合現代人們對環(huán)境無(wú)污染加工技術(shù)的要求，是一種綠色環(huán)保的技術(shù)。

磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法，由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn)，處理鍍鈦電話(huà)，因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)，處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程，

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